Edificio IBM

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About this building

Edificio IBM, diseñado por Ludwig Mies van der Rohe, se encuentra en Chicago, Estados Unidos. Fue diseñado en 1968-1969 y construido en 1970-1973.

Tiene una altura de 212 m, con un total de 52 pisos.

Se situa en un terreno de 6.070 m2 con una huella sobre el terreno de 3.159 m2 y un area contruida total de 165.367 m2.

Otra gente involucrada en el proceso de diseño y desarrollo de Edificio IBM fueron:

C.F. Murphy Associates como Ingeniero

Si quieres saber más sobre esta obra, ¡no dudes en visitar la ficha completa! donde encontrarás más información sobre el contexto histórico, el concepto, la estructura y los materiales utilizados.

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2018-02-28 at 09:30:40		meri

Sobre esta fotografía

Esta foto fue tomada por el 2013:10:07 05:52:07. La imagen ha sido tratada digitalmente con Adobe Photoshop CS6 (Macintosh), por lo que es posible que los colores y las formas no se correspondan exactamente con la realidad, aunque estos cambios suelen ser mínimos.

El fotógrafo/a utilizó una cámara Canon PowerShot SD1100 IS de la marca Canon, con un tiempo de exposición de 1/500, una distancia focal de 6200/1000 y una ISO de 400.

Calidad de la imagen

Una tiempo de exposición de 1/500 significa que el sensor de la cámara estuvo expuesto durante 0.002 segundos. Este valor es razonablemente bajo y por lo tanto es probable que la definición de la imagen sea bastante buena y podamos considerarla como nítida por más que se haya capturado sin trípode o contenta objetos en movimiento.

Una ISO de 400 implica que las condiciones de iluminación cuando se tomo la foto probablemente no fuesen ideales, por lo que es probable que la imagen pueda contener algo de "ruido", sobre todo cuando se visualiza en su tamaño original.

Autoría y derechos de Copy Right

Esta imagen puede estar protegida por copyright. No la utilices sin el consentimiento expreso de su autor.

Metadatos

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Canon PowerShot SD1100 IS
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Adobe Photoshop CS6 (Macintosh)
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