This image is available in several sizes: 205x205 pixels, 500x326 pixels, 1024x667 pixels, 1920x1251 pixels, or 3008x1960 pixels.
About this building
Monumento a Lincoln, diseñado por Henry Bacon, se encuentra en Washington D.C., Estados Unidos. Fue diseñado en 1897-1914 y construido en 1914-1922.
Tiene una altura de 30 m.
Otra gente involucrada en el proceso de diseño y desarrollo de Monumento a Lincoln fueron:
- Daniel Chester French, Hermanos Piccirilli, Ernest C. Bairstow, Evelyn Beatrice Longman, Jules Guerin como Decorador
Si quieres saber más sobre esta obra, ¡no dudes en visitar la ficha completa! donde encontrarás más información sobre el contexto histórico, el concepto, la estructura y los materiales utilizados.
File History
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2017-08-22 at 13:59:44 | meri |
Sobre esta fotografía
Esta foto fue tomada por Tech. Sgt. Andy Dunaway el 2003:09:26 17:15:05. La imagen ha sido tratada digitalmente con Adobe Photoshop 7.0, por lo que es posible que los colores y las formas no se correspondan exactamente con la realidad, aunque estos cambios suelen ser mínimos.
El fotógrafo/a utilizó una cámara NIKON D1X de la marca NIKON CORPORATION, con un tiempo de exposición de 10/3200, una distancia focal de 350/10 y una ISO de .
Calidad de la imagen
Una tiempo de exposición de 10/3200 significa que el sensor de la cámara estuvo expuesto durante 0.003125 segundos. Este valor es razonablemente bajo y por lo tanto es probable que la definición de la imagen sea bastante buena y podamos considerarla como nítida por más que se haya capturado sin trípode o contenta objetos en movimiento.
Autoría y derechos de Copy Right
Esta imagen puede estar protegida por copyright. No la utilices sin el consentimiento expreso de su autor.
Metadatos
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Artist:Tech. Sgt. Andy Dunaway
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Make:NIKON CORPORATION
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Model:NIKON D1X
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Image Description:030926-F-2828D-157 (Sep. 26, 2003) -- Aerial photo of the Lincoln Monument Washington D.C. on Sept. 26, 2003. DoD photo by Tech. Sgt. Andy Dunaway, U.S. Air Force. (RELEASED)
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